集成电路产业关键技术专利分析报告

5.4 多重图形技术专利态势分析

5.3 电子束光刻专利态势分析

5.2 定向自组装光刻技术专利态势分析

5.1 纳米压印光刻专利态势分析

第5章 光刻领域关键技术分析

4.4 3D存储技术专利态势分析

4.3 PCRAM技术的专利态势分析

4.2 RRAM技术的专利态势分析

4.1 MRAM技术的专利态势分析

第4章 存储领域关键技术分析

3.2 鳍式场效晶体管工艺技术专利分析

3.1 高介质金属栅工艺技术专利分析

第3章 工艺领域关键技术分析

2.6 集成电路设备仪器类专利分析

2.5 集成电路材料类专利分析

2.4 集成电路封装测试类专利分析

2.3 集成电路工艺制造类专利分析

2.2 集成电路设计类专利分析

2.1 集成电路产业专利总体分析

第2章 2015年集成电路产业公开专利统计分析

1.4 术语解释

1.3 数据来源

1.2 专利分析

1.1 需求调研

第1章 绪 论

序

内容简介

版权信息

封面

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版权信息

内容简介

序

第1章 绪 论

1.1 需求调研

1.2 专利分析

1.3 数据来源

1.4 术语解释

第2章 2015年集成电路产业公开专利统计分析

2.1 集成电路产业专利总体分析

2.2 集成电路设计类专利分析

2.3 集成电路工艺制造类专利分析

2.4 集成电路封装测试类专利分析

2.5 集成电路材料类专利分析

2.6 集成电路设备仪器类专利分析

第3章 工艺领域关键技术分析

3.1 高介质金属栅工艺技术专利分析

3.2 鳍式场效晶体管工艺技术专利分析

第4章 存储领域关键技术分析

4.1 MRAM技术的专利态势分析

4.2 RRAM技术的专利态势分析

4.3 PCRAM技术的专利态势分析

4.4 3D存储技术专利态势分析

第5章 光刻领域关键技术分析

5.1 纳米压印光刻专利态势分析

5.2 定向自组装光刻技术专利态势分析

5.3 电子束光刻专利态势分析

5.4 多重图形技术专利态势分析